Tetrachlorid hafničitý | Prášok HfCl4 | CAS 13499-05-3 | výrobná cena

Stručný popis:

Tetrachlorid hafničitý má dôležité uplatnenie ako prekurzor oxidu hafnia, katalyzátor pre organickú syntézu, jadrové aplikácie a nanášanie tenkých vrstiev, čo zdôrazňuje jeho všestrannosť a význam v rôznych technologických oblastiach.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Pošlite nám e-mail

Detaily produktu

Značky produktov

Popis produktu

Stručný úvod

Názov produktu: Chlorid hafničitý
Číslo CAS: 13499-05-3
Vzorec zlúčeniny: HfCl4
Molekulová hmotnosť: 320,3
Vzhľad: Biely prášok

Špecifikácia

Položka	Špecifikácia
Vzhľad	Biely prášok
HfCl4+ZrCl4	≥99,9 %
Zr	≤200 ppm
Fe	≤40 ppm
Ti	≤20 ppm
Si	≤40 ppm
Mg	≤20 ppm
Cr	≤20 ppm
Ni	≤25 ppm
U	≤5 ppm
Al	≤60 ppm

Aplikácia

Prekurzor oxidu hafniaTetrachlorid hafničitý sa používa predovšetkým ako prekurzor na výrobu oxidu hafničitého (HfO2), materiálu s vynikajúcimi dielektrickými vlastnosťami. HfO2 sa široko používa v dielektrických aplikáciách s vysokým dielektrickým koeficientom (high-k) pre tranzistory a kondenzátory v polovodičovom priemysle. HfCl4 je nevyhnutný pri výrobe pokročilých elektronických zariadení vďaka svojej schopnosti vytvárať tenké filmy oxidu hafničitého.
Katalyzátor organickej syntézyTetrachlorid hafničitý sa môže použiť ako katalyzátor pre rôzne organické syntetické reakcie, najmä polymerizáciu olefínov. Jeho vlastnosti Lewisovej kyseliny pomáhajú tvoriť aktívne medziprodukty, čím sa zlepšuje účinnosť chemických reakcií. Táto aplikácia je cenná pri výrobe polymérov a iných organických zlúčenín v chemickom priemysle.
Jadrová aplikáciaVďaka vysokému prierezu absorpcie neutrónov sa tetrachlorid hafničitý široko používa v jadrových aplikáciách, najmä v riadiacich tyčiach jadrových reaktorov. Hafnium dokáže účinne absorbovať neutróny, takže je vhodným materiálom na reguláciu štiepneho procesu, čo pomáha zlepšiť bezpečnosť a účinnosť výroby jadrovej energie.
Nanášanie tenkých vrstievTetrachlorid hafničitý sa používa v procesoch chemickej depozície z pár (CVD) na vytváranie tenkých vrstiev materiálov na báze hafnia. Tieto vrstvy sú nevyhnutné v rôznych aplikáciách vrátane mikroelektroniky, optiky a ochranných náterov. Schopnosť nanášať rovnomerné, vysoko kvalitné vrstvy robí HfCl4 cenným v pokročilých výrobných procesoch.